Penapisan Ketulenan Tinggi untuk Pembuatan Semikonduktor Ultra-Bersih
Penerangan
Penapis Gas Aliran Tinggi – Direka khas untuk penapisan gas proses ketulenan ultra tinggi dalam pembuatan semikonduktor. Direka bentuk dengan ketepatan tinggi daripada keluli tahan karat 316L, ia mempunyai reka bentuk media cakera berbilang lajur atau bertindan untuk memastikan rintangan rendah pada kadar aliran tinggi, dengan ketepatan penapisan mencapai 0.003μm untuk memenuhi keperluan ketulenan ultra tinggi. Pembinaan semua logam menjadikannya penyelesaian penapisan yang ideal untuk persekitaran dinamik suhu tinggi.
Ciri Produk
▶Semua Struktur Keluli Tahan Karat 316L— Memastikan ketahanan dan ketahanan terhadap kakisan.
▶Kadar Aliran Tinggi, Rintangan Rendah— Dioptimumkan untuk aliran tinggi dengan kehilangan tekanan yang minimum.
▶Kecekapan Pengekalan Zarah Ultra Tinggi— Cemerlang untuk mengekalkan keadaan ultra-tulen.
▶Tahan terhadap Suhu Tinggi, Tekanan dan Kakisan— Sesuai untuk persekitaran yang keras.
▶Sesuai dengan Pelbagai Gas Proses— Serbaguna untuk pelbagai aplikasi perindustrian.
▶Sesuai untuk Pembuatan, Pengujian dan Pembungkusan Bilik Bersih— Sesuai untuk digunakan dalam persekitaran terkawal.
▶Ujian Integriti 100%— Setiap penapis menjalani ujian integriti yang komprehensif untuk jaminan kualiti.
▶Ujian Kebocoran Helium 100%— Disahkan melalui ujian kebocoran helium untuk memastikan kebolehpercayaan dalam aplikasi kritikal.
Helaian Data
Parameter Teknikal
| Parameter | Spesifikasi |
|---|---|
| Bahan Elemen Penapis | Serbuk keluli tahan karat 316L disinter |
| Bahan Perumahan | Keluli tahan karat 316L |
| Tekanan Masuk Maks | 207 bar |
| Tekanan Pembezaan Operasi Maksimum | 5.2 bar |
| Kadar Kebocoran Pengesahan Helium | 2 x 10⁻¹⁰ cc/min |
| Kadar Kebocoran Ujian Helium | 1 x 10⁻¹⁰ cc/min |
| Rawatan Permukaan | |
| Permukaan Luaran | Ra < 1.6 µm |
| Permukaan Dalaman | Ra < 0.2 µm |
| Suhu Operasi Maksimum | |
| Gas Lengai | 400-500℃ |
| Gas Kakisan & Reaktif | 50℃ |
| Kecekapan Pengekalan Zarah | ≥99.9999999% (9LRV) @ 30 slpm |
| Kebersihan Hiliran | ≤0.03 zarah/liter @ > 0.01 μm, 30 slpm |
| Saiz Pengekalan Zarah | ≥0.003 μm |
Saiz
Berikut ialah nombor bahagian yang anda boleh pesan dan butiran saiz:
| Model Produk | Bahan Elemen Penapis | Ketepatan Penapisan (μm) | Jenis Sambungan |
|---|---|---|---|
| Z01B-00647 | Keluli Tahan Karat 316L | 10~0.003 | 1/4” |
| Z01B-00648 | Keluli Tahan Karat 316L | 10~0.003 | 1/2” |
| Z01B-00649 | Keluli Tahan Karat 316L | 10~0.003 | 1/8” |
| Z01B-00650 | Keluli Tahan Karat 316L | 10~0.003 | 1” |
| Boleh disesuaikan | Keluli Tahan Karat 316L | 10~0.003 | Seperti yang Diperlukan |
Aplikasi Lazim
beberapa aplikasi tipikal bagiPenapis Pukal dan Utiliti Ketulenan TinggidanPenapis Aliran Gas di Pad Gas:
1. Pembuatan Semikonduktor
*Memastikan bekalan gas ultra tulen untuk proses fabrikasi wafer, pengetsaan dan pemendapan wap kimia (CVD).
*Mengekalkan ketulenan tinggi dalam sistem pengedaran gas pukal untuk nitrogen, argon dan gas pembawa lain.
2. Pengeluaran Farmaseutikal
*Menyediakan gas steril dan bebas zarah untuk persekitaran pembuatan kritikal.
*Menyokong penapisan berketulenan tinggi untuk bilik bersih dan persekitaran terkawal bagi mengekalkan integriti produk.
3. Sistem Gas Makmal
*Digunakan dalam persekitaran makmal untuk menulenkan aliran gas dalam peralatan analisis seperti kromatografi gas dan spektrometri jisim.
*Memastikan gas berketulenan tinggi untuk aplikasi penyelidikan dan pengujian, melindungi instrumen sensitif.
4. Pemprosesan Makanan dan Minuman
*Menapis CO₂ dan gas lain yang digunakan dalam pengkarbonan, pembungkusan dan penyimpanan, bagi mengekalkan keselamatan dan kualiti makanan.
*Memastikan bekalan gas bebas pencemaran di loji pemprosesan, terutamanya untuk utiliti gas pukal.
5. Industri Minyak dan Gas
*Membersihkan aliran gas asli dalam penapisan pad gas, membuang bahan cemar sebelum penyimpanan atau pengangkutan.
*Melindungi peralatan hiliran dengan menyingkirkan zarah, kelembapan dan bendasing dalam sistem aliran gas bertekanan tinggi.
6. Pembuatan Kimia
*Menapis gas utiliti seperti nitrogen dan argon yang digunakan dalam sintesis dan tindak balas kimia.
*Mengekalkan ketulenan gas untuk mencegah pencemaran dan ketidakselarasan tindak balas.
7. Aeroangkasa dan Pertahanan
*Menghantar gas berketulenan tinggi dalam persekitaran pembuatan dan pengujian untuk bahan dan komponen aeroangkasa.
*Memastikan ketulenan gas yang konsisten dalam persekitaran terkawal untuk pemasangan pesawat dan peralatan pertahanan.
8. Pengeluaran Tenaga (Loji Janakuasa)
*Menapis gas bertekanan tinggi untuk penyejukan dan aplikasi proses, terutamanya dalam tetapan suhu tinggi.
*Meningkatkan kecekapan dan mengurangkan haus peralatan dengan mencegah pencemaran dalam sistem penyejukan dan aliran gas.
Ini fPenapis adalah penting dalam sebarang aplikasi yang memerlukan aliran gas yang bersih dan konsisten, meningkatkan perlindungan peralatan,
kecekapan proses, dan kualiti produk akhir merentasi industri.
Hantarkan mesej anda kepada kami:
