Penapis C-Seal Pemasangan Permukaan IGS Termaju untuk Sistem Gas Semikonduktor Ultra Tulen
Penerangan
Penapis Pemasangan Permukaan HENGKO direka bentuk untuk memenuhi keperluan sistem gas bersepadu yang digunakan dalam alat OEM semikonduktor. Menawarkan penapisan terkemuka dalam industri pada 0.003 µm, penapis ini memastikan prestasi dan kebolehpercayaan yang luar biasa dengan kecekapan pintasan zarah ≥99.9999999% (9-LRV) pada 120 slpm.
Dibina daripada serbuk keluli tahan karat 316L yang teguh yang disinter untuk elemen dan perumah penapis, penapis ini mematuhi spesifikasi SEMI F86-0304, yang menampilkan komponen dua port yang disesuaikan untuk sistem pengedaran gas 1.125” dengan konfigurasi pengedap-C. Ia menyokong tekanan masuk maksimum 3.4 MPa pada 100°C dan perbezaan tekanan operasi maksimum 0.69 MPa pada 100°C.
Penapis khusus ini, yang serasi dengan spesifikasi pengedap jenis-C dan jenis-W, mencapai kebersihan hiliran dengan pembebasan zarah
Dengan kemasan permukaan Ra< 1.6 µm di bahagian luar dan Ra< 0.13 µm di bahagian dalam, ia direka bentuk untuk menahan suhu tinggi sehingga 460°C. Direka bentuk untuk penyepaduan mudah dan naik taraf reka bentuk modular, penapis ini memudahkan pemasangan dan penyelenggaraan, membantu mengoptimumkan prestasi sistem dalam aplikasi penghantaran dan kawalan gas semikonduktor.
Ciri Produk
▶ Keseluruhan pembinaan keluli tahan karat 316L
▶ Reka bentuk mini, struktur padat, menjimatkan ruang
▶ Ciri-ciri penggantian dan penyahjerapan gas yang sangat baik
▶ Tahan suhu tinggi, tekanan tinggi dan kakisan
▶ Perumah keluli tahan karat 316L yang digilap elektro
▶ Pemasangan dan penyelenggaraan yang mudah dan cekap
▶ Pengedap mekanikal, tidak dikimpal secara struktural pada medium
![]()
Helaian Data
| Parameter Teknikal | Nilai-nilai |
|---|---|
| Bahan Elemen Penapis | Serbuk Sinter Keluli Tahan Karat 316L |
| Bahan Perumahan | Keluli Tahan Karat 316L |
| Tekanan Masuk Maksimum | 3.4 MPa @ 100°C |
| Pembezaan Operasi Maksimum | 0.69 MPa @ 100°C |
| Kadar Kebocoran Pengesahan Helium | 1x10⁻¹¹ cc/min |
| Kadar Kebocoran Ujian Helium | 1x10⁻⁹ cc/min |
| Rawatan Permukaan | Permukaan Luar Ra< 1.6 µm |
| Permukaan Dalam Ra< 0.13 µm | |
| Suhu Operasi Maksimum | 460°C |
| Kecekapan Pemintasan Zarah | ≥99.9999999% (9-LRV) @ 120 slpm (MPPS Rujukan, semua zarah) |
| Kebersihan Hiliran | Pelepasan Zarah:< 0.03 zarah/liter (< 1 zarah/ft³) |
| Meruap:Kelembapan < 10 ppb | |
| Saiz Pemintasan Zarah | ≥0.003 μm |
| Julat Aliran | 0 ~ 120 slpm |
Saiz

Berikut ialah nombor bahagian yang anda boleh pesan dan butiran saiz:
| Model Produk | Kadar Aliran | Tinggi T (mm) | Ketepatan Penapisan | Tahap Pembersihan |
|---|---|---|---|---|
| Z01B-00637 | 10 slpm | 51.6 | 0.003 µm | C |
| Z01B-00638 | 40 slpm | 82.9 | 0.003 µm | C |
| Z01B-00687 | 80 slpm | 126.2 | 0.003 µm | C |
| Z01B-00688 | 120 slpm | 167.9 | 0.003 µm | C |
Aplikasi Lazim
Untuk digunakan dengan sistem penghantaran gas modular pelekap permukaan 1.125” dan 1.5” untuk W-seal dan C-seal.
![]()
Hantarkan mesej anda kepada kami:





